| 專利號 | 03803883.8 | 申請日 | 2003.02.14 |
| 名稱 | 酞菁化合物,制備該酞菁化合物的方法以及含有該酞菁化 | ||
| 公開號 | CN1633475 | 公開日 | 2005.06.29 |
| 主分類 | C09B47/16 | 次分類 | C09B47/16;C09B67/22; |
| 紡織分類 | 有由氮原子取代的烷基（3） | 分案原申請號 | |
| 申請(專利權)人 | 三井化學株式會社;山 | 優先權 | 2002.2.15 JP 39143/2002;2002.8.30 JP 253836/20 |
| 地址 | 日本東京都 | ||
| 發明(設計)人 | 清野和浩;中川真一;三澤傳美;木下智之;高坂明宏;寺尾 | 國際申請 | PCT/JP2003/001517 2003.2.14 |
| 國際公布 | WO2003/068865 日 2003.8.21 | 進入國家日期 | 2004.08.13 |
| 機構 | 北京銀龍知識產權代理有限公司 | 代理人 | 鐘晶 |
| 介紹 | 一種由下面的通式(I)表示的酞菁化合物及其混合物，和一種在其記錄層含有該化合物/混合物的的光記錄介質。其中，通式(I)中，M是兩個氫原子，二價金屬原子，單取代基的三價金屬原子，二取代的四價金屬原子，或氧化金屬，和L1，L2，L3，和L4各自獨立地是式(a)、(b)、或(c)：在式(a)，式(b)和式(c)中，X表示取代或未取代的烷基，烷氧基，烷硫基，芳氧基，和芳硫基；每個R是獨立的氫原子，取代或未取代的碳原子總數為1-6的烷基，取代或未取代的碳原子總數為6-10的芳基；A表示羰基，硫代羰基，砜基，锍化物基，或碳亞氨基；Y表示金屬化合物殘基；Z獨立的表示氫原子，硝基，或鹵素原子；以及L1-L4中的至少一個是式(a)或(b)。 | ||
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