| 專利號 | 96121694.8 | 申請日 | 1996.11.30 |
| 名稱 | 用于輻射敏感材料的聚集染料 | ||
| 公開號 | CN1157302 | 公開日 | 1997.08.20 |
| 主分類 | C09B67/40 | 次分類 | C09B67/40;G03C1/83 |
| 紡織分類 | 以液體產品（3） | 分案原申請號 | |
| 申請(專利權)人 | 伊斯曼柯達公司 | 優先權 | 1995.11.30 US 565,480 |
| 地址 | 美國紐約州 | ||
| 發明(設計)人 | Ｍ?Ｊ?赫爾伯; Ｗ?Ｊ?哈里遜; Ｅ?－Ａ?加洛; Ｍ | 國際申請 | |
| 國際公布 | 進入國家日期 | ||
| 機構 | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王景朝 |
| 介紹 | 一種分散體，該分散體包括含水介質，含水介質中含有分散的式（Ⅰ）的聚集染料：其中Ｘ是氧或硫；Ｒ1－Ｒ4各自獨立地代表未取代或取代的烷基、未取代或取代的芳基或未取代或取代的雜芳基；Ｌ1、Ｌ2、和Ｌ3各自獨立地代表取代或未取代的次甲基；Ｍ+代表質子或無機或有機陽離子；n是０、１、２、或３，其中分散體中的聚集染料具有小于５５nm的吸收半譜帶寬度。 | ||
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